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ASML：所有EUV客户均订购了下一代high-NA EUV曝光机，单价翻倍到122.5亿

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ASML：所有EUV客户均订购了下一代high-NA EUV曝光机，单价翻倍到122.5亿

ASML正抓紧研制其下一代高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）曝光机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代装置。 具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高high-NA EUV曝光机了。

尽管目前包括台积电、英特尔、SK海力士、美光等国际半导体大厂都陆续下修资本支出，然而对于曝光机的钱还是不能省。

像是台积电之前在2022年技术论坛时，研发资深副总经理米玉杰就表示，台积电将于2024年引进高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）曝光机，以协助客户推动创新; 英特尔则在更早之前也宣称率先取得设备，预计2025年量产。

先前根据韩国媒体报导，三星集团将要下订10台的高阶制程需要用的ASML的极紫外光设备（EUV），预备未来在记忆体、晶圆代工产能可以扩大。 毕竟景气不好是一时的，未来的半导体产业依然还是一场装备战。

而高NA EUV曝光机允许加工更精密的半导体芯片，生产效率也更高，它也是2nm及更先进制程的必要条件。

根据韩国装置商透露，现款EUV曝光机的订货价是2000~3000亿韩元（约合49~74亿元台币），而高NA EUV曝光机的报价翻倍到了5000亿韩元（约合122.5亿元台币）。

据了解，在三季度财报中，ASML完成58亿欧元的净销售额，毛利率51.8%、净利润17亿欧元，公司预计四季度净销售额在61~66亿欧元之间。

CEO Peter Wennink表示，其三季度预订产品的销售额达到创纪录的89亿欧元，其中EUV装置就有38亿欧元。

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