Intel承认在EUV曝光上犯错：当年太自信导致10纳米制程多次跳票，任由AMD坐大

最近几年，台积电及三星在半导体工艺上超越了Intel，后者在14nm节点之前都是全球最先进的半导体公司，然而在10nm节点面临各种困难，给了对手AMD可乘之机。

Intel在这个过程中是如何被超越的？ CEO格尔辛格日前接受了采访，特别提到了Intel在EUV曝光技术上的选择错误。

在EUV技术研发上，Intel是全球重要推手，ASML研发EUV曝光机也得到了Intel的不少帮助，但是Intel在10nm节点没有选择EUV曝光，而是尝试了新的SAQP四重曝光技术。当初Intel的目标是不依赖EUV曝光机，也能靠自力生产先进制程。

格尔辛格表示，当初这个目标是很好的，然而SAQP曝光工艺非常复杂，成本高，随着时间的延续，Intel站在了EUV错误的一边，格尔辛格表示，鸡蛋不用放在同一个篮子里，当时Intel应该至少有一个平行的EUV战略才对。

格尔辛格所说的这个事，其实就是过去几年中Intel在10nm制程上多次跳票的关键，这两年才算是搞定了10nm的量产，现在改名为Intel 7。

至于EUV技术，Intel现在也重视起来了，跟ASML的合作很好，今年底量产的Intel 4就是Intel首个EUV技术产品，用于首发量产第14代Meteor Lake，明年上市。

10nm多次跳票顺带害了LG

值得一提的是，当年Intel在10nm制程上多次跳票，也顺带害了当年相信Intel代工的LG手机芯片。

在LG还有做手机的时候，当时原本爆料指出，LG 未来的 NUCLUN 芯片将采用英特尔 10nm 制程，搭载最新 A75 和 A55 CPU 核心。要知道，高通准备中的下一代旗舰骁龙835采用的是三星10nm工艺，但是英特尔的10nm技术更先进，密度和台积电、三星的7nm工艺相当。

然而这一次，英特尔不但辜负了 LG，同时也辜负了自己。因为制程技术难产，英特尔10nm制程连续跳票。

本来计划2015年亮相的英特尔10nm，先是延到2019年，再一度跳票又到了2021年底——现在的第12代处理器。在这期间，英特尔曾推出初代的 10nm 处理器 i3-8121U，但表现糟糕，上马 10nm 的计划不得不一拖再拖。

拉扯之间，LG 第三代手机芯片 NUCLUN 就此石沉大海。而不久之后，他们就宣布停止生产手机。